紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過(guò)使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過(guò)膜層后不同波長(zhǎng)光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過(guò)率低, 被譽(yù)為對(duì)人體安全的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外殺菌產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問(wèn)題, 兼顧了功能性和安全性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)菌和病原體.

紫外線在222nm下工作對(duì)濾光片生產(chǎn)廠家來(lái)說(shuō)是一項(xiàng)挑戰(zhàn), 因?yàn)樵S多常用材料在這個(gè)波段有較大的吸收、甚至不通光. 大多數(shù)干涉濾光片的設(shè)計(jì)都假設(shè)光只被透射或反射而不被吸收, 而遠(yuǎn)紫外波段由于吸收較大、材料選擇有限, 鍍膜難以獲得較高的透過(guò)成為業(yè)內(nèi)的一個(gè)難題. 為了解決傳統(tǒng)紫外濾光片膜層光譜吸收嚴(yán)重等問(wèn)題, 經(jīng)過(guò)推薦上海伯東某客戶采用光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制222nmUVC 紫外濾光片, 選取紫外通光性能及高低折射率較好的基底和材料, 鍍膜效果可達(dá)到客戶高品質(zhì)要求.

KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

上海伯東美國(guó)進(jìn)口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380輔助沉積鍍制222nm紫外濾光片, 能夠盡可能地減小材料在紫外波段的吸收, 并且沉積過(guò)程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設(shè)計(jì)和均勻性修正, 可以很好地鍍制出透過(guò)率高、截止深度高、溫度漂移小、膜層致密性好、使用壽命長(zhǎng)的產(chǎn)品, 解決業(yè)內(nèi)在紫外波段鍍膜透過(guò)率不高以及溫漂的難題.

上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻離子源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

KRI 考夫曼離子源其余相關(guān)應(yīng)用：

美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助沉積高鋁超硬涂層增強(qiáng)切削性能

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上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

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上海伯東: 羅小姐