01. 生產力

在該系統中，新穎的氣體壽命延長減少了機器停機時間，并加強了經過驗證的 6 kHz ArF 激光技術，以提供高功率以支持高吞吐量。浸沒罩設計改進拓寬了使用無面漆的低接觸角抗蝕劑優化缺陷率的窗口。

與 TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機維護計劃程序一起，綜合服務包通過利用系統空閑時間執行所需的日常維護來優化系統可用性。

TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機平面雙載物臺的剛度增加，提供了更高的速度和加速度，從而允許更快的步進和掃描序列。 

加上更快的卡盤更換，新設計在生產力方面向前邁出了一大步。此外，對可維護性的嚴格關注導致設計在需要時易于訪問。

02. 光學

TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機包括一個1.35NA 193nm折反射投影鏡頭，可實現低至 40nm（C-quad）和 38 nm（偶極子）的生產分辨率，以及支持全 26x33 mm視場大小、4X減少和與現有設計的標線兼容性。

鏡頭元件配備了用于校正光學像差的操縱器，從而為低 k1 應用實現生產力。FlexRay Prepared Illuminator通過擴展傳統和離軸照明的范圍來實現的靈活性，以實現用于低 k1 成像的高級瞳孔整形。

03. 成像性能

NXT:1970Ci光刻機可以實現 ≤ 2.0nm 的單機（專用卡盤）全晶圓覆蓋覆蓋，以及 ≤ 3.5 nm 的匹配機（參考晶圓）全晶圓覆蓋覆蓋。 

該系統的平行 ILIAS (PARIS) 傳感器允許客戶對整個投影狹縫中的光學像差進行平行測量，從而實現更準確的對準、改進的標線加熱校正和動態鏡頭加熱校正。